TC4鈦合金手機(jī)、手表、平板等殼/框產(chǎn)品拋光工藝
一、材料性質(zhì):TC4鈦合金具有優(yōu)良的耐蝕性、小的密度、高的比強(qiáng)度及較好的韌性。
二、TC4鈦合金拋光理論:由于TC4鈦合金具有優(yōu)良的耐蝕性,采用普通的CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝很難解決,要靠更強(qiáng)的機(jī)械作用切削和優(yōu)良冷卻系統(tǒng)完成。由于TC4鈦合金具有高的比強(qiáng)度及較好的韌性,因此散熱性不好,由此干拋的方式基本不可能達(dá)到鏡面,須采用濕式拋光工藝才行。
三、拋光工藝:
1、粗拋:表面移出量大于30um,才需采用此工工序!最佳方案川菱研磨墊CL-Pad-2080A搭配多晶氧化鋁研磨液CL-TC4-LA15,實(shí)測(cè)平均移除量可達(dá)8um/min,研磨后產(chǎn)品表面光滑細(xì)膩,無麻點(diǎn)桔皮、無起泡等不良現(xiàn)象。
2、中拋:表面移出量大于10um,才需采用此工工序!最佳方案川菱研磨墊CL-Pad-2080A搭配多晶氧化鋁研磨CL-TC4-LA10,實(shí)測(cè)平均移除量可達(dá)6um/min,研磨后產(chǎn)品表面光滑細(xì)膩,無麻點(diǎn)桔皮、無起泡等不良現(xiàn)象。
3、拋光:光澤度1800GU,最佳方案川菱研磨墊CL-Pad-5017搭配多晶氧化鋁研磨CL-TC4-PL02,實(shí)測(cè)平均移除量可達(dá)1um/min,拋光后產(chǎn)品表面黑亮,40X顯微鏡無麻點(diǎn)桔皮、無起泡等不良現(xiàn)象。